| 加工定制：是 | 机器类型：清洗机 | 用途：工业用 |
| 原理：等离子 | 品牌：三和波达 | 工作频率：40KHZ |
| 型号：YZOD8-2C | 工作电压：220（伏） | 功率：200（瓦） |
| 规格：不锈钢舱体Φ100mm×270mm |
应用领域
光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
高分子材料表面的修饰。
封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，***提高涂覆镀膜质量。
牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。
等离子清洗机型号
• YZD08-2C型是单路气体输入，
*供电电源： AC220V
*工作电流： 整机工作电流不大于1.2A(不含真空泵)
*射频电源功率： 200W
*射频频率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）
*频率偏移量： 小于0.2KHz
*特性阻抗： 50欧姆，自动匹配
*真空度： 10Pa—1000Pa
*气体流量： 60—600ml/min(可调)
*过程控制： MCU自动与手动方式
清洗时间： 1-100分钟可调
功率大小 10%-***可调
*外形尺寸： YZD08-2C型_400x450x250
*重量： 36.5Kg
*真空泵：
*真空室温度： 小于65°C
*冷却方式： 强制风冷
不锈钢舱体：Φ100mm×270mm
• 容量：2升
